寧波圓盤拋光機(jī)PLC配置人機(jī)界面

一種精密雙面拋光機(jī)，包括機(jī)架、主軸傳動機(jī)構(gòu)、上拋光盤傳動機(jī)構(gòu)，主軸傳動機(jī)構(gòu)連接下拋光盤、內(nèi)齒圈、外齒圈以及與上拋光盤配合的連接件，內(nèi)齒圈與外齒圈之間嚙合用于放置工件的行星輪，上拋光盤傳動機(jī)構(gòu)位于主軸傳動機(jī)構(gòu)的上方，上拋光盤傳動機(jī)構(gòu)包括安裝在機(jī)架上的驅(qū)動裝置，驅(qū)動裝置帶有活塞桿，活塞桿與上拋光盤連接，采用四個變頻電機(jī)拖動上下拋盤、內(nèi)齒圈、外齒圈的四動拋光原理來進(jìn)行傳動系統(tǒng)的設(shè)計，且采用軸套結(jié)構(gòu)使四軸同心；驅(qū)動裝置連接用于調(diào)節(jié)加載壓力大小的壓力調(diào)節(jié)閥，在活塞桿與上拋光盤的連接處安裝壓力傳感器，能夠控制上拋光盤的壓力。本發(fā)明結(jié)構(gòu)緊湊、可實(shí)現(xiàn)無級調(diào)速、加工過程平穩(wěn)性佳、可有效提升拋光效率

精密雙面拋光機(jī)的控制系統(tǒng)

一種精密雙面拋光機(jī)的控制系統(tǒng)，包括拋光機(jī)精密控制器、與驅(qū)動上拋光盤轉(zhuǎn)動的第一變頻電機(jī)連接的第一變頻 器、與驅(qū)動太陽輪轉(zhuǎn)動的第二變頻電機(jī)連接的第二變頻器、與驅(qū)動下拋光盤轉(zhuǎn)動的第三變頻電機(jī)連接的第三變頻器、與驅(qū)動外齒圈轉(zhuǎn)動的第四變頻器、安裝在各個變 頻電機(jī)的主軸上的轉(zhuǎn)速傳感器，以及調(diào)節(jié)驅(qū)動壓力大小的壓力調(diào)節(jié)閥和安裝在氣缸的活塞桿與上拋光盤之間的壓力傳感器。所述的拋光機(jī)精密控制器包括電機(jī)轉(zhuǎn)速調(diào) 節(jié)模塊、電機(jī)轉(zhuǎn)速控制模塊、上拋光盤壓力控制模塊。本發(fā)明可實(shí)現(xiàn)無級調(diào)速、調(diào)節(jié)上拋光盤的壓力、加工過程平穩(wěn)性佳、可有效提升拋光效率。

雙面拋光機(jī)加工理論及工藝優(yōu)化的研究

隨著微電子技術(shù)和信息技術(shù)的飛速發(fā)展，對各種光電子元件的加工要求越來越高，如何地獲得光電子晶片超平滑無損傷表面已成為超精密拋光加工技術(shù)的研究方向，目前我國超精密加工研究與應(yīng)用水平還落后于工業(yè)技術(shù)發(fā)達(dá)國家，因此開發(fā)具有自主產(chǎn)權(quán)的超精密雙面拋光機(jī)、同時開展晶片雙面拋光加工工藝技術(shù)的基礎(chǔ)研究，為新研制的雙面拋光機(jī)提供優(yōu)化的加工工藝參數(shù)具有很重要的現(xiàn)實(shí)意義。 本文根據(jù)超精密加工機(jī)床設(shè)計要求，提出了雙面拋光機(jī)總體設(shè)計方案，在分析精密雙面拋光機(jī)的控制要求及設(shè)計方案的基礎(chǔ)上，研制了超精密雙面拋光機(jī)的控制系統(tǒng)，詳細(xì)介紹了實(shí)現(xiàn)該機(jī)控制的各部分硬件系統(tǒng)、自動加工控制流程和人機(jī)交互的控制界面，并對研制的設(shè)備進(jìn)行了運(yùn)行及檢測。 通過研究晶片、拋光墊與行星輪三者之間的運(yùn)動關(guān)系，建立了行星式雙面拋光運(yùn)動軌跡數(shù)學(xué)模型，利用MATLAB軟件分析了不同位置、不同拋光盤轉(zhuǎn)速、不同轉(zhuǎn)速比下的相對運(yùn)動軌跡狀態(tài)及對拋光質(zhì)量的影響，然后根據(jù)研究拋光盤上的任一點(diǎn)相對工件運(yùn)動軌跡密度分布均勻來建立拋光均勻性函數(shù)，并通過仿真研究得出影響工件拋光均勻性的關(guān)鍵因素。 后，本文研究雙面拋光加工工藝參數(shù)如拋光盤轉(zhuǎn)速、壓力、拋光液種類、濃度和溫度等對拋光效果的影響。在新研制的超精密雙面拋光機(jī)上進(jìn)行單晶硅雙面拋光加工實(shí)驗，通過優(yōu)化單晶硅雙面拋光加工工藝參數(shù)，實(shí)現(xiàn)單晶硅材料晶片的率、超光滑表面加工。

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